国元证券：国产光刻胶高端领域取得突破 相关上市公司短期或受追捧

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　　日前南大光电公告，公司控股子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶产品近日成功通过客户的使用认证，这标志着“ArF光刻胶产品开发和产业化”项目取得了关键性的突破，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。

　　光刻胶是半导体光刻工艺的关键材料，按照曝光波长可分为g线、i线、KrF、ArF和EUV光刻胶，后三者为高端光刻胶产品。目前我国适用于6英寸硅片的g线和i线光刻胶自给率约为20%，适用于8英寸硅片的KrF光刻胶自给率不足5%，适用于12寸硅片的ArF光刻胶则完全依靠进口，此次国产ArF光刻胶取得突破，或再度引发市场对光刻胶概念的追捧！

　　目前全球半导体光刻胶市场主要被日本企业高度垄断，并且在越高端的市场垄断地位越明显。在g/i线市场，日本的TOK、JSR、住友化学和富士胶片分别占据26%、15%、15%、8%的份额；在KrF市场，日本TOK、信越化学和JSR市场份额分别为34%、22%和18%份额；在ArF市场，日本JSR、信越化学、TOK和住友化学市场份额分别达25%、23%、20%和15%。

　　具体到A股市场，南大光电控股子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶产品成功通过了客户的使用认证，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶；晶瑞股份旗下苏州瑞红的i线光刻胶已向国内头部的知名大尺寸半导体厂商供货，KrF光刻胶完成中试，目前正在积极研发ArF光刻胶；上海新阳主攻KrF和干法ArF光刻胶，目前已进入产能建设阶段。

　　根据市场公开资料显示，相关概念股包括：南大光电、晶瑞股份、上海新阳、容大感光等。

　　来源：科创板日报、博览财经

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